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序號
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代碼
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股票名稱
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說明
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| 1 | SH603650 | 彤程新材 | I線光刻膠、G線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠、EBR、TFT-LCD用正性光刻膠、AMOLED用正性光刻膠、PTBP增粘樹脂、PTOP增粘樹脂、改性苯酚-甲醛樹脂、非改性苯酚-甲醛樹脂、間苯二酚甲醛樹脂、均勻劑、硫化樹脂、胎面樹脂、鋅皂鹽、線性苯酚-甲醛樹脂、烷基苯酚-甲醛樹脂、液體苯酚-甲醛樹脂、粉體苯酚-甲醛樹脂、PBAT |
| 2 | SZ300236 | 上海新陽 | 大馬士革銅互連、TSV、Bumping電鍍液及配套添加劑、銅制程蝕刻后清洗液、鋁制程蝕刻后清洗液、氮化硅/鈦蝕刻液、化學機械研磨后清洗液、I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法、浸沒式光刻膠以及稀釋劑、底部抗反射膜、淺槽隔離研磨液、金屬鎢研磨液、金屬銅研磨液、硅氧化層研磨液、多晶硅層研磨液、無鉛純錫電鍍液及添加劑、去毛刺溶液、半導體封裝引線腳表面處理配套電鍍、清洗設備和先進封裝制程用電鍍、清洗設備、PVDF氟碳粉末涂料、氟碳噴涂涂料、氟碳輥涂涂料、超細耐候粉末涂料、晶圓濕法工藝技術開發與服務、晶圓劃片刀、平板顯示用光刻材料、磨料 |
| 3 | SZ300346 | 南大光電 | 三甲基鎵、三甲基銦、三乙基鎵、三甲基鋁、二異丙胺硅烷（DIPAS）、雙（二乙氨基）硅烷（BDEAS）、四（二甲氨基）鈦（TDMAT）、六氯乙硅烷（HCDS）、正硅酸乙酯（TEOS）、三甲硅烷基胺（TSA）、高純磷烷、高純砷烷、安全源磷烷、安全源砷烷、安全源三氟化硼、混氣產品、三氟化氮、六氟化硫、ArF光刻膠（干式及浸沒式）、光刻膠配套稀釋劑 |